Neutron Transmutation Doping of Thin Silicon Films Electrodeposited from the KF-KCl-KI-K2SiF6 Melt › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1149/1945-7111/ab933c
Конечная издательская версия

Andrey Isakov
Sergey Khvostov
Evgeny Kinev
Michael Laptev
Anastasia Khudorozhkova
Olga Grishenkova
Vladimir Rychkov
Yurii Zaikov

Язык оригинала	Английский
Номер статьи	082515
Число страниц	9
Журнал	Journal of the Electrochemical Society
Том	167
Номер выпуска	8
DOI	https://doi.org/10.1149/1945-7111/ab933c
Состояние	Опубликовано - 25 мая 2020

Предметные области WoS

Материаловедение, Покрытия и пленки
Электрохимия

Предметные области ASJC Scopus

Electronic, Optical and Magnetic Materials
Materials Chemistry
Surfaces, Coatings and Films
Electrochemistry
Renewable Energy, Sustainability and the Environment

ID: 13162102