Широкий пучок низкоэнергетичных электронов (100 эВ, 0-8 А) инжектировался в Ar-N 2-газовую смесь, давление которой регулировалось в пределах 0.15-0.28 Па изменением величины потока азота 1-25 мл/мин. В отсутствие пучка твердость TiN-покрытий имеет локальный максимум (25 ГПа) при потоке азота 12 мл/мин. Рост тока пучка приводит к увеличению содержания азота в покрытиях и твёрдости до 30-35 ГПа при низких потоках азота. Воздействие пучка на газовую смесь приводит к увеличению параметра решетки, уровня микронапряжений, уменьшению размера кристаллитов и изменению текстуры покрытия. Показано, что применение электронного пучка открывает дополнительные возможности по сравнению с разбалансировкой магнитного поля в магнетронах, так как обеспечивает полное управление энергией и током ионизирующих рабочую газовую среду электронов и соответственно частотой генерации и плотностью тока ионов из плазмы.