DOI

Исследован процесс переключения силового кремниевого диода в проводящее состояние волной ударной ионизации, возбуждаемой импульсом перенапряжения с субнаносекундным фронтом. В экспериментах на диод диаметром 6 мм без предварительного обратного смещения подавался импульс обратного напряжения, обеспечивающий среднюю скорость нарастания напряжения на диоде dU/dt в диапазоне 1-10 кВ/нс. Численное моделирование показало, что расчетные и экспериментально наблюдаемые осциллограммы напряжения на диоде имеют количественное согласие в том случае, когда величина активной площади структуры Sa, через которую проходит ток переключения, возрастает с увеличением dU/dt. Показано, что при dU/dt<2 кВ/нс активная площадь стремится к нулю, а при dU/dt>10 кВ/нс приближается к полной площади структуры. Сравнение с результатами аналогичных работ показывает, что увеличение Sa с ростом параметра dU/dt не зависит от материала структуры (кремний и арсенид галлия), количества слоев в полупроводниковой структуре (диоды и тиристоры), а также от величины предварительного обратного смещения.
Переведенное названиеSPATIAL INHOMOGENEITY OF IMPACT-IONIZATION SWITCHING PROCESS IN POWER SI DIODE
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)594-602
Число страниц9
ЖурналФизика и техника полупроводников
Том57
Номер выпуска7
DOI
СостояниеОпубликовано - 2023

    Уровень публикации

  • Перечень ВАК
  • Russian Science Citation Index

ID: 49921797