Исследована роль подложки различной природы на фазовый состав, морфологию и механические напряжения на интерфейсе "пленка---подложка" при химическом осаждении слоев CdPbS на кремнии (111), ситалле, плавленом кварце, ITO-покрытии, предметном и пористом стеклах. Высказано предположение, что выявленные особенности связаны с различными условиями зарождения и роста пленок. Установлено, что на плавленом кварце формируется однофазная пленка твердого раствора Cd--x--Pb--1-x--S в отличие от остальных субстратов, на которых осаждаются слои, содержащие дополнительно от 2 до 8 мол% рентгеноаморфной фазы CdS. Показано, что увеличение величины механических напряжений сжатия на интерфейсе "пленка--подложка" с -9.32 до -121.79 кН/м--2-- в ряду пористое стекло--предметное стекло--ситалл--кремний (111)--плавленый кварц асимбатно значениям температурных коэффициентов расширения этих подложечных материалов. Ключевые слова: химическое осаждение, тонкие пленки, твердые растворы Cd--x--Pb--1-x--S, механические напряжения сжатия.