DOI

Гидрохимическим осаждением из трилонатной реакционной смеси получены высокоадгезионные слои моноселенида олова (SnSe) толщиной до (200±10) нм. Рентгеновской дифракцией установлено, что синтезированные пленки кристаллизуются в орторомбической сингонии (пр. гр. Pnma). Присутствие в поверхностных слоях пленок значительного количества кислорода объясняется частичным окислением образцов с формированием фазы SnO2. Результаты ионного травления на глубину до 18 нм показали резкое снижение содержания кислорода по толщине и фактическое соответствие их элементному составу SnSe. Установленная по результатам оптических исследований ширина запрещенной зоны для прямых переходов составила 1.69 эВ. Синтезированные слои SnSe имеют характерный для этого материала дырочный тип проводимости.
Переведенное названиеComposition, structure, semiconductor properties of chemically deposited SnSe films
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)865-871
Число страниц7
ЖурналФизика и техника полупроводников
Том53
Номер выпуска6
DOI
СостояниеОпубликовано - 2019

    ГРНТИ

  • 29.00.00 ФИЗИКА

    Уровень публикации

  • Перечень ВАК

ID: 10517858