1 - 10 из 13Размер страницы: 10
Сортировать по:: Год публикации
  1. 2024

  2. Choice of the Composition of the Chloride Melts for the Electrochemical Synthesis of Silicon

    Parasotchenko, Y. A., Gevel, T. Ф., Pavlenko, O. B., Gorshkov, L. V., Leonova, N. M., Suzdaltsev, A. V. & Zaikov, Y. P., 1 февр. 2024, в: Silicon. 16, 3, стр. 1025-1032 8 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  3. 2023

  4. Способ электроосаждения сплошных осадков кремния из расплавленных солей: патент на изобретение

    Гевел, Т. А., Горшков, Л. В., Парасотченко, Ю. А., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 3 мая 2023, IPC № C25C 3/34, C01B 33/00, Федеральный институт промышленной собственности, Патент № 2795477, 22 нояб. 2022, Дата приоритета 22 нояб. 2022, № заявки 2022130254

    Результаты исследований: Патент

  5. ВЛИЯНИЕ МАТЕРИАЛА КАТОДА НА КИНЕТИКУ ЭЛЕКТРОВОССТАНОВЛЕНИЯ ИОНОВ КРЕМНИЯ В РАСПЛАВЕ KCL–CSCL–K2SIF6

    Гевел, Т. А., Горшков, Л. В., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 2023, в: Расплавы. 5, стр. 491-501 11 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  6. КРАТКИЙ ОБЗОР РЕЗУЛЬТАТОВ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ ЭЛЕКТРООСАЖДЕННОГО КРЕМНИЯ ДЛЯ УСТРОЙСТВ ПРЕОБРАЗОВАНИЯ И НАКОПЛЕНИЯ ЭНЕРГИИ

    Суздальцев, А. В., Гевел, Т. А., Парасотченко, Ю. А. & Павленко, О. Б., 2023, в: Расплавы. 1, стр. 99-108 10 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  7. 2022

  8. Electrodeposition of Silicon from the KCl–CsCl–K2SiF6 Melt

    Gevel, T. A., Zhuk, S. I., Leonova, N. M., Leonova, A. M., Suzdal’tsev, A. V. & Zaikov, Y. P., авг. 2022, в: Russian Metallurgy (Metally). 2022, 8, стр. 958-964 7 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  9. Study into the possibility of silicon electrodeposition from a low-fluoride KCl-K2SiF6 melt

    Gevel, T., Zhuk, S., Suzdaltsev, A. & Zaikov, Y., 1 июл. 2022, в: Ionics. 28, 7, стр. 3537-3545 9 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  10. Электролитический способ получения наноразмерных осадков кремния в расплавленных солях: патент на изобретение

    Гевел, Т. А., Трофимов, А. А., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 22 апр. 2022, IPC № C25B 1/00, C01B 33/00, B82Y 40/00, Федеральный институт промышленной собственности, Патент № 2770846, 23 нояб. 2021, Дата приоритета 23 нояб. 2021, № заявки 2021134130

    Результаты исследований: Патент

  11. Electrodeposition of Silicon from the Low-Melting LiCl-KCl-CsCl-K2SiF6 Electrolytes

    Ustinova, Y., Pavlenko, O., Gevel, T., Zhuk, S., Suzdaltsev, A. & Zaikov, Y., 1 мар. 2022, в: Journal of the Electrochemical Society. 169, 3, 8 стр., 032506.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  12. Electrodeposition of Silicon from Molten KCl-K2SiF6for Lithium-Ion Batteries

    Trofimov, A. A., Leonova, A. M., Leonova, N. M. & Gevel, T. A., 1 февр. 2022, в: Journal of the Electrochemical Society. 169, 2, 8 стр., 020537.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  13. Электроосаждение кремния из расплава KCl–CsCl–K2SiF6

    Гевел, Т. А., Жук, С. И., Леонова, Н. М., Леонова, А. М., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 2022, в: Расплавы. 4, стр. 350-361 12 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

Назад 1 2 Далее

ID: 20740488