Методами рентгеновской дифракции и атомно-силовой микроскопии исследован процесс кристаллизации аморфного сплава Fe72.5Cu1Nb2Mo1.5Si14B9 под воздействием ускоренных ионов Ar+. Установлено, что облучение ионами Ar+ с энергией 30 кэВ при плотности ионного тока 300 мкА/см2 (флюенс 3.75·1015 см-2; время облучения ~ 2 с; кратковременный нагрев ионным пучком до 350 °С, что на 150 °С ниже термического порога кристаллизации) приводит к полной кристаллизации аморфного сплава (во всем объеме ленты толщиной 25 мкм) с выделением кристаллов твердого раствора α-Fe(Si), близкого по составу к Fe80Si20, стабильной фазы Fe3Si и метастабильных гексагональных фаз. Методами атомно-силовой и сканирующей туннельной микроскопии показано, что вызванная облучением нанокристаллизация сопровождается изменением рельефа как с облученной, так и с необлученной сторон ленты сплава Fe72.5Cu1Nb2Mo1.5Si14B9 на глубине, превышающей на фактор более чем 103 глубину физического проникновения ионов в данный материал. Полученные данные, с учетом существенного снижения температуры и многократного ускорения процесса кристаллизации, являются доказательством радиационно-динамического воздействия ускоренных ионов на метастабильную аморфную среду.