В настоящей работе изучались характеристики плазмы, формирующейся в газовом разряде низкого давления в магнитном поле. Движение электронов рассматривается в диффузионно-дрейфовом приближении. Что касается ионов, то предполагается, что они покидают промежуток в режиме свободного полета. Рассматриваются два режима горения разряда, характеризующиеся отрицательным и положительным анодным падением потенциала. Получены аналитические выражения для концентрации плазмы в обоих режимах. Выявлены условия, при которых анодное падение потенциала отсутствует, и плазма непосредственно контактирует с поверхностью анода. Режим с отрицательным анодным падением является предпочтительным для использования в источниках заряженных частиц и других устройствах, так как в этом случае напряжение горения разряда меньше и энергетическая эффективность, соответственно, выше.