Изучались эффекты, связанные с полировкой эмиссионного микрорельефа при тренировке стального высокопотенциального электрода, когда электрическое поле, достаточное для развития взрывной электронной эмиссии, достигается за 1 нс и быстрее. Метод динамической рефлектометрии позволил с пикосекундной точностью регистрировать начало эмиссии тока с катода по отношению к фронту напряжения. Определены напряженности макроскопического электрического поля на металле и соответствующие времена задержки взрывной электронной эмиссии, при которых реализуется холостой ход коаксиального магнитоизолированного диода. Продемонстрировано значительное влияние крутизны фронта напряжения на темп развития эмиссии.