Standard

Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов: практикум. / Маскаева, Лариса Николаевна; Марков, Вячеслав Филиппович; Туленин, Станислав Сергеевич и др.
Екатеринбург: Издательство Уральского университета, 2017. 284 стр.

Результаты исследований: Книга/отчет › Учебное издание › Рецензирование

Harvard

Маскаева, ЛН, Марков, ВФ, Туленин, СС, Форостяная, НА & Марков, ВФ (ред.) 2017, Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов: практикум. Издательство Уральского университета, Екатеринбург. <http://hdl.handle.net/10995/52376>

APA

Маскаева, Л. Н., Марков, В. Ф., Туленин, С. С., Форостяная, Н. А., & Марков, В. Ф. (Ред.) (2017). Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов: практикум. Издательство Уральского университета. http://hdl.handle.net/10995/52376

Vancouver

Маскаева ЛН, Марков ВФ, Туленин СС, Форостяная НА, Марков ВФ, (ed.). Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов: практикум. Екатеринбург: Издательство Уральского университета, 2017. 284 стр.

Author

Маскаева, Лариса Николаевна ; Марков, Вячеслав Филиппович ; Туленин, Станислав Сергеевич и др. / Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов : практикум. Екатеринбург : Издательство Уральского университета, 2017. 284 стр.

BibTeX

@book{860ae242c3aa4a1e8e355cedc7f3b022,
title = "Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов: практикум",
abstract = "В практикуме представлены оригинальные расчетные задания по определению условий образования твердой фазы, а также большой цикл лабораторных работ по гидрохимическому осаждению тонких пленок халькогенидов металлов, изучению их полупроводниковых и фотоэлектрических свойств с использованием современной приборной базы. Рассмотрены условия и режимы подготовки поверхности подложки к осаждению, влияние материала подложки на морфологию и фоточувствительные свойства получаемых пленок, методы определения их толщин, приемы сенсибилизации пленок к ИК-излучению. Рекомендовано студентам высших учебных заведений, в первую очередь магистрам, проходящим обучение по программам материаловедческого профиля.",
author = "Маскаева, {Лариса Николаевна} and Марков, {Вячеслав Филиппович} and Туленин, {Станислав Сергеевич} and Форостяная, {Наталья Александровна}",
editor = "Марков, {Вячеслав Филиппович}",
note = "Рекомендовано методическим советом УрФУ для студентов, обучающихся по программам бакалавриата и магистратуры по направлению подготовки 18.03.01, 18.04.01 «Химическая технология»",
year = "2017",
language = "Русский",
isbn = "978-5-7996-2141-4",
publisher = "Издательство Уральского университета",
address = "Российская Федерация",

}

RIS

TY - BOOK

T1 - Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов

T2 - практикум

AU - Маскаева, Лариса Николаевна

AU - Марков, Вячеслав Филиппович

AU - Туленин, Станислав Сергеевич

AU - Форостяная, Наталья Александровна

A2 - Марков, Вячеслав Филиппович

N1 - Рекомендовано методическим советом УрФУ для студентов, обучающихся по программам бакалавриата и магистратуры по направлению подготовки 18.03.01, 18.04.01 «Химическая технология»

PY - 2017

Y1 - 2017

N2 - В практикуме представлены оригинальные расчетные задания по определению условий образования твердой фазы, а также большой цикл лабораторных работ по гидрохимическому осаждению тонких пленок халькогенидов металлов, изучению их полупроводниковых и фотоэлектрических свойств с использованием современной приборной базы. Рассмотрены условия и режимы подготовки поверхности подложки к осаждению, влияние материала подложки на морфологию и фоточувствительные свойства получаемых пленок, методы определения их толщин, приемы сенсибилизации пленок к ИК-излучению. Рекомендовано студентам высших учебных заведений, в первую очередь магистрам, проходящим обучение по программам материаловедческого профиля.

AB - В практикуме представлены оригинальные расчетные задания по определению условий образования твердой фазы, а также большой цикл лабораторных работ по гидрохимическому осаждению тонких пленок халькогенидов металлов, изучению их полупроводниковых и фотоэлектрических свойств с использованием современной приборной базы. Рассмотрены условия и режимы подготовки поверхности подложки к осаждению, влияние материала подложки на морфологию и фоточувствительные свойства получаемых пленок, методы определения их толщин, приемы сенсибилизации пленок к ИК-излучению. Рекомендовано студентам высших учебных заведений, в первую очередь магистрам, проходящим обучение по программам материаловедческого профиля.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=30359576

M3 - Учебное издание

SN - 978-5-7996-2141-4

BT - Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов

PB - Издательство Уральского университета

CY - Екатеринбург

ER -

ID: 2167239