1 - 10 из 13Размер страницы: 10
Сортировать по:: Год публикации
  1. 2021

  2. ВЛИЯНИЕ МАТЕРИАЛА ПОДЛОЖКИ НА КИНЕТИКУ И МЕХАНИЗМ ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЯ КРЕМНИЯ ИЗ РАСПЛАВА KCL–KF–K2SIF6

    Жук, С. И., Гевел, Т. А. & Зайков, Ю. П., 2021, в: Расплавы. 4, стр. 354-364 11 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  3. ЭЛЕКТРОВЫДЕЛЕНИЕ КРЕМНИЯ ИЗ РАСПЛАВА KCL–K2SIF6

    Гевел, Т. А., Жук, С. И., Устинова, Ю. А., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 2021, в: Расплавы. 2, стр. 187-198 12 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  4. Electrochemical synthesis of nano-sized silicon from kcl–k2sif6 melts for powerful lithium-ion batteries

    Gevel, T., Zhuk, S., Leonova, N., Leonova, A., Trofimov, A., Suzdaltsev, A. & Zaikov, Y., 1 нояб. 2021, в: Applied Sciences (Switzerland). 11, 22, 12 стр., 10927.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  5. 2022

  6. Электроосаждение кремния из расплава KCl–CsCl–K2SiF6

    Гевел, Т. А., Жук, С. И., Леонова, Н. М., Леонова, А. М., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 2022, в: Расплавы. 4, стр. 350-361 12 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  7. Electrodeposition of Silicon from Molten KCl-K2SiF6for Lithium-Ion Batteries

    Trofimov, A. A., Leonova, A. M., Leonova, N. M. & Gevel, T. A., 1 февр. 2022, в: Journal of the Electrochemical Society. 169, 2, 8 стр., 020537.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  8. Electrodeposition of Silicon from the Low-Melting LiCl-KCl-CsCl-K2SiF6 Electrolytes

    Ustinova, Y., Pavlenko, O., Gevel, T., Zhuk, S., Suzdaltsev, A. & Zaikov, Y., 1 мар. 2022, в: Journal of the Electrochemical Society. 169, 3, 8 стр., 032506.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  9. Электролитический способ получения наноразмерных осадков кремния в расплавленных солях: патент на изобретение

    Гевел, Т. А., Трофимов, А. А., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 22 апр. 2022, IPC № C25B 1/00, C01B 33/00, B82Y 40/00, Федеральный институт промышленной собственности, Патент № 2770846, 23 нояб. 2021, Дата приоритета 23 нояб. 2021, № заявки 2021134130

    Результаты исследований: Патент

  10. Study into the possibility of silicon electrodeposition from a low-fluoride KCl-K2SiF6 melt

    Gevel, T., Zhuk, S., Suzdaltsev, A. & Zaikov, Y., 1 июл. 2022, в: Ionics. 28, 7, стр. 3537-3545 9 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  11. Electrodeposition of Silicon from the KCl–CsCl–K2SiF6 Melt

    Gevel, T. A., Zhuk, S. I., Leonova, N. M., Leonova, A. M., Suzdal’tsev, A. V. & Zaikov, Y. P., авг. 2022, в: Russian Metallurgy (Metally). 2022, 8, стр. 958-964 7 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

  12. 2023

  13. ВЛИЯНИЕ МАТЕРИАЛА КАТОДА НА КИНЕТИКУ ЭЛЕКТРОВОССТАНОВЛЕНИЯ ИОНОВ КРЕМНИЯ В РАСПЛАВЕ KCL–CSCL–K2SIF6

    Гевел, Т. А., Горшков, Л. В., Суздальцев, А. В. & Зайков, Ю. П., 2023, в: Расплавы. 5, стр. 491-501 11 стр.

    Результаты исследований: Вклад в журнал › Статья › Рецензирование

Назад 1 2 Далее

ID: 20740488