Standard

ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ. / Гаврилов, Н.В.; Каменецких, А.С.; Чукин, А.В.
In: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, No. 6, 2017, p. 106-112.

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review

Harvard

Гаврилов, НВ, Каменецких, АС & Чукин, АВ 2017, 'ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ', Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, no. 6, pp. 106-112. https://doi.org/10.7868/80207352817060105

APA

Гаврилов, Н. В., Каменецких, А. С., & Чукин, А. В. (2017). ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, (6), 106-112. https://doi.org/10.7868/80207352817060105

Vancouver

Гаврилов НВ, Каменецких АС, Чукин АВ. ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2017;(6):106-112. doi: 10.7868/80207352817060105

Author

Гаврилов, Н.В. ; Каменецких, А.С. ; Чукин, А.В. / ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ. In: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2017 ; No. 6. pp. 106-112.

BibTeX

@article{88a60cb6d92a4f94aac55b3f31c1d613,
title = "ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ",
abstract = "Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.",
author = "Н.В. Гаврилов and А.С. Каменецких and А.В. Чукин",
year = "2017",
doi = "10.7868/80207352817060105",
language = "Русский",
pages = "106--112",
journal = "Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования",
issn = "1028-0960",
publisher = "Издательство {"}Наука{"}",
number = "6",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ

AU - Гаврилов, Н.В.

AU - Каменецких, А.С.

AU - Чукин, А.В.

PY - 2017

Y1 - 2017

N2 - Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.

AB - Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.

UR - http://elibrary.ru/item.asp?id=29404688

U2 - 10.7868/80207352817060105

DO - 10.7868/80207352817060105

M3 - Статья

SP - 106

EP - 112

JO - Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования

JF - Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования

SN - 1028-0960

IS - 6

ER -

ID: 1996022