Standard

Harvard

APA

Vancouver

Author

BibTeX

@article{e73c7f411b7043f8882bde73d8a60bab,
title = "МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ AL В AR/O 2-СМЕСИ, ИОНИЗУЕМОЙ ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ: ХАРАКТЕРИСТИКИ РАЗРЯДА И НАНЕСЁННЫХ AL 2O 3-ПОКРЫТИЙ",
abstract = "Исследовано влияние инжекции широкого (100 см 2) пучка низкоэнергетических (до 250 эВ) электронов на характеристики магнетронного разряда при реактивном распылении Al в Ar/O 2-смеси. Показано, что с увеличением тока пучка снижается величина потока O 2, при которой происходит переход в «оксидный» режим распыления, в результате повышения скорости формирования на поверхности мишени оксидного слоя. Методом реактивного магнетронного распыления с ионным сопровождением, регулируемым за счёт генерации плазмы пучком электронов, при температуре 700 °С получены Al 2O 3-покрытия и исследован их фазовый состав.",
author = "Гаврилов, {Н. В.} and Каменецких, {Александр Сергеевич} and Чукин, {Андрей Владимирович}",
year = "2015",
language = "Русский",
volume = "58",
pages = "83--87",
journal = "Известия вузов. Физика",
issn = "0021-3411",
publisher = "Национальный исследовательский Томский государственный университет",
number = "9-3",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ AL В AR/O 2-СМЕСИ, ИОНИЗУЕМОЙ ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ: ХАРАКТЕРИСТИКИ РАЗРЯДА И НАНЕСЁННЫХ AL 2O 3-ПОКРЫТИЙ

AU - Гаврилов , Н. В.

AU - Каменецких, Александр Сергеевич

AU - Чукин, Андрей Владимирович

PY - 2015

Y1 - 2015

N2 - Исследовано влияние инжекции широкого (100 см 2) пучка низкоэнергетических (до 250 эВ) электронов на характеристики магнетронного разряда при реактивном распылении Al в Ar/O 2-смеси. Показано, что с увеличением тока пучка снижается величина потока O 2, при которой происходит переход в «оксидный» режим распыления, в результате повышения скорости формирования на поверхности мишени оксидного слоя. Методом реактивного магнетронного распыления с ионным сопровождением, регулируемым за счёт генерации плазмы пучком электронов, при температуре 700 °С получены Al 2O 3-покрытия и исследован их фазовый состав.

AB - Исследовано влияние инжекции широкого (100 см 2) пучка низкоэнергетических (до 250 эВ) электронов на характеристики магнетронного разряда при реактивном распылении Al в Ar/O 2-смеси. Показано, что с увеличением тока пучка снижается величина потока O 2, при которой происходит переход в «оксидный» режим распыления, в результате повышения скорости формирования на поверхности мишени оксидного слоя. Методом реактивного магнетронного распыления с ионным сопровождением, регулируемым за счёт генерации плазмы пучком электронов, при температуре 700 °С получены Al 2O 3-покрытия и исследован их фазовый состав.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=25225102

M3 - Статья

VL - 58

SP - 83

EP - 87

JO - Известия вузов. Физика

JF - Известия вузов. Физика

SN - 0021-3411

IS - 9-3

ER -

ID: 1896448