Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
}
TY - JOUR
T1 - ПИКОСЕКУНДНОЕ ПЕРЕКЛЮЧЕНИЕ ТОКА ВЫСОКОЙ ПЛОТНОСТИ (60 КА/СМ2) КРЕМНИЕВЫМ КОММУТАТОРОМ НА ОСНОВЕ СВЕРХБЫСТРОГО ФРОНТА ИОНИЗАЦИИ
AU - Гусев, А.И.
AU - Любутин, С.К.
AU - РУКИН, Сергей Николаевич
AU - Словиковский, Б. Г.
AU - Цыранов, Сергей Николаевич
PY - 2014
Y1 - 2014
N2 - При исследовании кремниевого коммутатора с механизмом последовательного переключения диодных структур на основе сверхбыстрого фронта ионизации в коаксиальной линии с волновым сопротивлением 48 Ом получены импульсы с амплитудой более 100 кВ и фронтом 40 пс по уровню 0.3-0.9 от амплитуды. Максимальная скорость нарастания выходного напряжения достигает 2 МВ/нс при амплитудном значении плотности коммутируемого тока 60 кА/см2. Численное моделирование показало, что при скорости нарастания обратного напряжения на одну структуру >100 кВ/нс, реализованной в эксперименте, время коммутации единичных структур в приборе составляет 7-15 пс, а электрическое поле в p-n-переходе достигает порога зинеровского пробоя (~106 В/см) даже в том случае, когда структура диода содержит технологические примеси с глубокими уровнями ионизации с концентрацией до 1013 см-3.
AB - При исследовании кремниевого коммутатора с механизмом последовательного переключения диодных структур на основе сверхбыстрого фронта ионизации в коаксиальной линии с волновым сопротивлением 48 Ом получены импульсы с амплитудой более 100 кВ и фронтом 40 пс по уровню 0.3-0.9 от амплитуды. Максимальная скорость нарастания выходного напряжения достигает 2 МВ/нс при амплитудном значении плотности коммутируемого тока 60 кА/см2. Численное моделирование показало, что при скорости нарастания обратного напряжения на одну структуру >100 кВ/нс, реализованной в эксперименте, время коммутации единичных структур в приборе составляет 7-15 пс, а электрическое поле в p-n-переходе достигает порога зинеровского пробоя (~106 В/см) даже в том случае, когда структура диода содержит технологические примеси с глубокими уровнями ионизации с концентрацией до 1013 см-3.
UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=22018917
M3 - Статья
VL - 48
SP - 1095
EP - 1106
JO - Физика и техника полупроводников
JF - Физика и техника полупроводников
SN - 0015-3222
IS - 8
ER -
ID: 6471387