Standard

Harvard

APA

Vancouver

Author

BibTeX

@article{7aa31c9270b14a7fb66f21bd739e4497,
title = "ФОТОКАТАЛИТИЧЕСКОЕ РАЗЛОЖЕНИЕ МЕТИЛЕНОВОГО СИНЕГО ПРИ УЧАСТИИ ТОНКОПЛЕНОЧНОГО СУЛЬФИДА МЕДИ(II)",
abstract = "Проблема очистки воды от токсичных соединений в последнее время становится все более актуальной. В промышленных и коммунальных стоках растет содержание антибиотиков, красителей и других трудноокисляемых органических соединений, с полным удалением которых традиционные методы водоподготовки не справляются. Одним из наиболее перспективных и экологически чистых методов очистки воды является фотокаталитическое разложение органических соединений под действием света в присутствии полупроводниковых материалов. В настоящей работе представлены результаты исследований каталитической активности химически осажденных пленок CuS и CuS (Ni) в реакции фотодеградации метиленового синего. Для целенаправленного химического осаждения пленок сульфида меди проанализированы ионные равновесия в системе «CuSO4 - CH3COONa - CH3COOH - N2H4CS» и определены преобладающие в растворе комплексные соединения меди(II) в области значений рН 0-14, а также установлена потенциальная область образования сульфида меди(II) по гомогенному механизму. Химическим осаждением получены пленки CuS толщиной 100±10 нм с хорошей адгезией к поверхности как ситалла, так и матированного кварца. Электронно-микроскопическими исследованиями поверхности пленок CuS, осажденных на ситалловые подложки, показано, что частицы, из которых они сформированы, имеют средние размеры ~10 нм. Показано, что степень разложения красителя метиленового синего на поверхности тонкопленочного фотокатализатора СuS под действием видимого света составляет 15.6%.",
author = "Лысанова, {Мария Александровна} and Маскаева, {Лариса Николаевна} and Поздин, {Андрей Владимирович} and Марков, {Вячеслав Филиппович}",
note = "Работа выполнена при финансовой поддержке при поддержке Российского научного фонда (проект №23-19-00052).",
year = "2023",
doi = "10.37952/ROI-jbc-01/23-73-2-92",
language = "Русский",
volume = "73",
pages = "92--101",
journal = "Бутлеровские сообщения",
issn = "2074-0212",
publisher = "Общество с ограниченной ответственностью {"}Инновационно-издательский дом {"}Бутлеровское наследие{"}",
number = "2",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - ФОТОКАТАЛИТИЧЕСКОЕ РАЗЛОЖЕНИЕ МЕТИЛЕНОВОГО СИНЕГО ПРИ УЧАСТИИ ТОНКОПЛЕНОЧНОГО СУЛЬФИДА МЕДИ(II)

AU - Лысанова, Мария Александровна

AU - Маскаева, Лариса Николаевна

AU - Поздин, Андрей Владимирович

AU - Марков, Вячеслав Филиппович

N1 - Работа выполнена при финансовой поддержке при поддержке Российского научного фонда (проект №23-19-00052).

PY - 2023

Y1 - 2023

N2 - Проблема очистки воды от токсичных соединений в последнее время становится все более актуальной. В промышленных и коммунальных стоках растет содержание антибиотиков, красителей и других трудноокисляемых органических соединений, с полным удалением которых традиционные методы водоподготовки не справляются. Одним из наиболее перспективных и экологически чистых методов очистки воды является фотокаталитическое разложение органических соединений под действием света в присутствии полупроводниковых материалов. В настоящей работе представлены результаты исследований каталитической активности химически осажденных пленок CuS и CuS (Ni) в реакции фотодеградации метиленового синего. Для целенаправленного химического осаждения пленок сульфида меди проанализированы ионные равновесия в системе «CuSO4 - CH3COONa - CH3COOH - N2H4CS» и определены преобладающие в растворе комплексные соединения меди(II) в области значений рН 0-14, а также установлена потенциальная область образования сульфида меди(II) по гомогенному механизму. Химическим осаждением получены пленки CuS толщиной 100±10 нм с хорошей адгезией к поверхности как ситалла, так и матированного кварца. Электронно-микроскопическими исследованиями поверхности пленок CuS, осажденных на ситалловые подложки, показано, что частицы, из которых они сформированы, имеют средние размеры ~10 нм. Показано, что степень разложения красителя метиленового синего на поверхности тонкопленочного фотокатализатора СuS под действием видимого света составляет 15.6%.

AB - Проблема очистки воды от токсичных соединений в последнее время становится все более актуальной. В промышленных и коммунальных стоках растет содержание антибиотиков, красителей и других трудноокисляемых органических соединений, с полным удалением которых традиционные методы водоподготовки не справляются. Одним из наиболее перспективных и экологически чистых методов очистки воды является фотокаталитическое разложение органических соединений под действием света в присутствии полупроводниковых материалов. В настоящей работе представлены результаты исследований каталитической активности химически осажденных пленок CuS и CuS (Ni) в реакции фотодеградации метиленового синего. Для целенаправленного химического осаждения пленок сульфида меди проанализированы ионные равновесия в системе «CuSO4 - CH3COONa - CH3COOH - N2H4CS» и определены преобладающие в растворе комплексные соединения меди(II) в области значений рН 0-14, а также установлена потенциальная область образования сульфида меди(II) по гомогенному механизму. Химическим осаждением получены пленки CuS толщиной 100±10 нм с хорошей адгезией к поверхности как ситалла, так и матированного кварца. Электронно-микроскопическими исследованиями поверхности пленок CuS, осажденных на ситалловые подложки, показано, что частицы, из которых они сформированы, имеют средние размеры ~10 нм. Показано, что степень разложения красителя метиленового синего на поверхности тонкопленочного фотокатализатора СuS под действием видимого света составляет 15.6%.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=50447850

U2 - 10.37952/ROI-jbc-01/23-73-2-92

DO - 10.37952/ROI-jbc-01/23-73-2-92

M3 - Статья

VL - 73

SP - 92

EP - 101

JO - Бутлеровские сообщения

JF - Бутлеровские сообщения

SN - 2074-0212

IS - 2

ER -

ID: 37196282