В статье рассматривается подход к определению допустимых границ изменения технологических параметров процесса на основе моделирования нелинейной динамики наноструктурирующего выглаживания. Введены понятия критической скорости и динамической характеристики наноструктурирующего выглаживания. Построены номограммы, позволяющие определить параметры массы и демпфера индентора инструмента и режимы нагружения поверхностного слоя.