Определены условия гидрохимического способа синтеза тонких пленок теллура, основанного на восстановлении водного раствора теллуристой кислоты гидразином. Рассчитаны окислительновосстановительные потенциалы теллуристой кислоты и гидразина, а также их разность в зависимости от рН среды и концентрации теллурит-ионов. Исследована кинетика роста на ситалловых подложках слоев теллура, их структура, состав, морфология.