Изучена кинетика процессов на графитовом аноде в оксигалогенидных расплавах на основе эвтектики CsCl-KCl-NaCl с добавками TeO2 и NaF при температуре 600 °С. Исследованы зависимости предельных токов перезаряда ионов теллура и остаточных токов разряда кислородсодержащих ионов от содержания TeO2 и NaF. Превышение этих токов приводит к выделению хлора в оксихлоридных расплавах и фреонов в оксихлоридно-фторидных расплавах. Предложен механизм растворения TeO2 в хлоридных и хлоридно-фторидных расплавах с формированием и последующей диссоциацией ок-2- -сихлорида теллура с образованием O2-, TeCl6, [TeO2Cl]. Их присутствие в электролите подтверждено методом инфра-красной спектроскопии и объясняет высокие скорости разряда на аноде кислородсодержащих ионов.
Original languageRussian
Pages (from-to)30-34
Number of pages5
JournalИзвестия высших учебных заведений. Цветная металлургия
Issue numberспецвыпуск
DOIs
Publication statusPublished - 2015

    Level of Research Output

  • VAK List

    GRNTI

  • 31.15.00

ID: 1706514