Standard

Harvard

APA

Vancouver

Author

BibTeX

@article{932f8aef3485402dad37d67adbfbe0ee,
title = "ЭЛЕКТРОННАЯ МИКРОСКОПИЯ МИКРОСТРУКТУРЫ ТОНКИХ ПЛЕНОК СУРЬМЫ ПЕРЕМЕННОЙ ТОЛЩИНЫ",
abstract = "Напыленные в вакууме тонкие пленки Sb с градиентом толщины исследованы методами просвечивающей электронной микроскопии. Микроструктуры в пленках с увеличением толщины изменялись от аморфных островков увеличивающейся плотности и размеров до лабиринтной и сплошной пленки с текстурированием, также меняющимся с ростом толщины. На основе анализа картин изгибных экстинкционных контуров выявлен сильный внутренний изгиб кристаллической решетки, до 120 deg/μm, а также зависимость кристаллографических ориентировок в структурах пленки от толщины.",
author = "Колосов, {Владимир Юрьевич} and Юшков, {Антон Александрович} and Веретенников, {Лев Михайлович} and Бокуняева, {Александра Олеговна}",
year = "2022",
doi = "10.21883/JTF.2022.11.53447.09-22",
language = "Русский",
volume = "92",
pages = "1727--1732",
journal = "Журнал технической физики",
issn = "0044-4642",
publisher = "Издательство {"}Наука{"}",
number = "11",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - ЭЛЕКТРОННАЯ МИКРОСКОПИЯ МИКРОСТРУКТУРЫ ТОНКИХ ПЛЕНОК СУРЬМЫ ПЕРЕМЕННОЙ ТОЛЩИНЫ

AU - Колосов, Владимир Юрьевич

AU - Юшков, Антон Александрович

AU - Веретенников, Лев Михайлович

AU - Бокуняева, Александра Олеговна

PY - 2022

Y1 - 2022

N2 - Напыленные в вакууме тонкие пленки Sb с градиентом толщины исследованы методами просвечивающей электронной микроскопии. Микроструктуры в пленках с увеличением толщины изменялись от аморфных островков увеличивающейся плотности и размеров до лабиринтной и сплошной пленки с текстурированием, также меняющимся с ростом толщины. На основе анализа картин изгибных экстинкционных контуров выявлен сильный внутренний изгиб кристаллической решетки, до 120 deg/μm, а также зависимость кристаллографических ориентировок в структурах пленки от толщины.

AB - Напыленные в вакууме тонкие пленки Sb с градиентом толщины исследованы методами просвечивающей электронной микроскопии. Микроструктуры в пленках с увеличением толщины изменялись от аморфных островков увеличивающейся плотности и размеров до лабиринтной и сплошной пленки с текстурированием, также меняющимся с ростом толщины. На основе анализа картин изгибных экстинкционных контуров выявлен сильный внутренний изгиб кристаллической решетки, до 120 deg/μm, а также зависимость кристаллографических ориентировок в структурах пленки от толщины.

UR - https://www.elibrary.ru/item.asp?id=49608004

U2 - 10.21883/JTF.2022.11.53447.09-22

DO - 10.21883/JTF.2022.11.53447.09-22

M3 - Статья

VL - 92

SP - 1727

EP - 1732

JO - Журнал технической физики

JF - Журнал технической физики

SN - 0044-4642

IS - 11

ER -

ID: 31584126